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MoSi2的可塑性增強(qiáng)機(jī)制
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資料類別
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化工建筑畢業(yè)論文（設(shè)計） |
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課程(專業(yè))
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化工 |
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關(guān)鍵詞
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薄膜表面|彌散 |
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適用年級
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大學(xué) |
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身份要求
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普通會員 |
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金 幣
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60 �。�金幣如何獲得？） |
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文件格式
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word |
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文件大小
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2393K |
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發(fā)布時間
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2012-04-30 21:13:00 |
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預(yù)覽文件
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無 |
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下載次數(shù)
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1 |
| 發(fā)布人 |
kj008 |
內(nèi)容簡介：
畢業(yè)論文 MoSi2的可塑性增強(qiáng)機(jī)制，說明書共20頁，7260字。
摘要
在MoSi2的低溫可塑性增強(qiáng)機(jī)制，這是體心立方金屬和B2有序合金的手術(shù)，可以觀察到，在適當(dāng)?shù)膲毫�，溫度，�?yīng)變率制度。我們在提高M(jìn)oSi2的可塑性，在韌脆轉(zhuǎn)變溫度，900-1400°C。范圍說明表面薄膜（氧化鋯）和彌散效應(yīng)（TIC）我們還表明，通過實驗涉及高溫（1300℃）預(yù)，錯位生成過程的有效運作，可以延長低的溫度范圍內(nèi)多晶硅MoSi2的可塑性變形。也已在此溫度范圍內(nèi)變形的多晶MoSi2的錯位子結(jié)構(gòu)特點。整體結(jié)果表明，方法，以提高韌性MoSi2的需要不僅限于由弱界面韌性階段的特點。
關(guān)鍵字：薄膜表面 彌散 球相 弱界面
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