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納米多孔SiO2薄膜光學(xué)性能的研究
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資料類別
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化工建筑畢業(yè)論文（設(shè)計(jì)） |
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課程(專業(yè))
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電子科學(xué)與技術(shù) |
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關(guān)鍵詞
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SiO2|增透膜 |
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適用年級(jí)
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大學(xué) |
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身份要求
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普通會(huì)員 |
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金 幣
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50 �。�金幣如何獲得？） |
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文件格式
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word |
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文件大小
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1620K |
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發(fā)布時(shí)間
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2012-09-20 08:27:00 |
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無(wú) |
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1 |
| 發(fā)布人 |
kj008 |
內(nèi)容簡(jiǎn)介：
畢業(yè)論文 納米多孔SiO2薄膜光學(xué)性能的研究，說(shuō)明書共32頁(yè)，15074字。
摘要
光學(xué)薄膜是薄膜科學(xué)中最早被深入研究的，而增透膜在現(xiàn)代光學(xué)薄膜生產(chǎn)中占有十分重要的地位。目前已有很多不同類型的增透膜可供利用，并能滿足技術(shù)光學(xué)領(lǐng)域的絕大部分需要。但大功率激光系統(tǒng)，要求某些元器件要有極低的表面反射，以避免敏感元件受到不必要的反射的破壞，因此，實(shí)際的需求促使著增透膜不斷向更高水平發(fā)展。
多孔二氧化硅（SiO2）薄膜由于其特殊的化學(xué)成分及結(jié)構(gòu)因素而具有許多優(yōu)異的性能，如較低的介電常數(shù)、折射率和熱導(dǎo)率，較高的機(jī)械強(qiáng)度和熱穩(wěn)定性，以及與基片間良好的結(jié)合力等。因此，多孔 SiO2薄膜是一種具有廣闊應(yīng)用前景的半導(dǎo)體器件低介電材料、紅外探測(cè)器的隔熱材料以及光學(xué)器件中的減反射膜材料。溶膠-凝膠法是一種制備多孔 SiO2薄膜的簡(jiǎn)便有效的方法，然而由于該工藝的固有缺陷，通常難以制得具有較高孔隙率且均勻完整的膜層。本論文以 TEOS（正硅酸乙酯）、乙醇和水等為原料，通過(guò)溶膠－凝膠法浸漬提拉涂膜工藝制備 SiO2增透膜。優(yōu)化溶膠-凝膠工藝構(gòu)建多孔 SiO2厚膜，并對(duì)膜的光學(xué)性能進(jìn)行分析研究。
關(guān)鍵詞： SiO2 , 增透膜 , 溶膠-凝膠
目 錄
第一章 緒論 2
1.1引言 2
1.2光學(xué)薄膜制備工藝的發(fā)展概況 3
1.3增透膜研究意義 3
1.4薄膜增透原理 4
1.5增透薄膜的應(yīng)用 5
1.6常用薄膜的制備方法 6
1.6.1等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積法 6
1.6.2磁控濺射法 8
1.6.3溶膠-凝膠法 9
1.7檢測(cè)方法 11
1.7.1掃描電子顯微鏡（SEM） 11
1.7.2X射線衍射儀 12
1.7.3分光光度計(jì) 13
第二章 自制提拉機(jī) 14
2.1提拉機(jī)原理 14
2.2提拉鍍膜的過(guò)程 14
2.3影響膜層厚度的因素 15
2.4自制提拉機(jī)存在的問(wèn)題 15
第三章 二氧化硅薄膜的制備 17
3.1 SiO2溶膠的制備藥品 17
3.2試驗(yàn)設(shè)備 17
3.3實(shí)驗(yàn)方案和研究方法 18
3.4實(shí)驗(yàn)過(guò)程 18
第四章 SiO2薄膜光學(xué)性能分析 1
4.1溶劑及工藝方法的討論 1
4.2不同SIO2工藝的表面形貌 1
4.3 SIO2薄膜的X射線衍射XRD分析 2
4.4SIO2薄膜的透光率分析 4
第五章 結(jié)論 7
致 謝 8
參考文獻(xiàn) 1
相關(guān)說(shuō)明：
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